很多人都知道半导体工艺中光刻机是最核心的，因为它决定了半导体工艺的技术水平，而且成本能占到整个芯片的1/3。在进入7nm节点之后，光刻机也需要升级到euv光刻机，目前仅有荷兰asml公司能造，该公司ceo表示euv光刻机非常复杂，没有可能被复制，全球只有asml能生产。
据荷兰媒体报道，在1月22日的asml财报会议上，asml公司ceo peter wennink谈到了euv光刻机的问题，他解释说asml是euv光刻机的系统集成商，这套设备集成了全球数百家公司的技术，拥有超过8000多个零部件，许多零件都是非常复杂的。
peter wennink表示，以镜头为例（注：物镜系统是光刻机三大核心之一，其他两个是激光系统、工作台），卡尔蔡司为asml提供光学镜头，集成了各种反光镜及光学部件，世界上没有哪家公司能够复制他们的技术。
peter wennink强调，asml的光刻机装有传感器，一旦检测到异常情况就会发出警报。
根据asml财报的最新财报，2019年该公司交付了26台euv光刻机，远超上一年的18台，预计2020年交付35台euv光刻机，2021年则会达到45台到50台的交付量，是2019年的两倍左右。
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