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Intel眼中的“假7nm” 台积电：N7制程节点命名遵循惯例、确非物理尺度

2020年02月26日  | 移动技术网科技  | 我要评论

基于三星5nm工艺的高通骁龙x60基带已发布，台积电下半年也将基于5nm(n5)为苹果代工a14、华为代工麒麟1020等芯片。

显然，这对于仍在打磨14nm并在10nm供货能力挣扎的intel来说，似乎并不利。

不过，intel早在2017年就撰文抨击行业内关于流程节点命名的混乱，时任工艺架构和集成总监的mark bohr呼吁晶圆厂们建立套统一的规则来命名先进制程，比如晶体管密度。而且以这个标准来看的话，intel的10nm甚至比竞品的7nm还要优秀。

此后，坊间的挺i派喊出三星、台积电是“假7nm”的口号。

对此，台积电营销负责人godfrey cheng做客amd webinar活动时回应，从0.35微米（350nm）开始，所谓的工艺数字就不再真正代表物理尺度了。他解释，7nm/n7是一种行业标准化术语而已，之后还有n5等等。

他同样认为“需要寻求一种全新的、对工艺节点不同的描述化语言。”

按照intel的建议，以逻辑晶体管密度（mtr/mm2，每平方毫米的百万晶体管数）来作为定义工艺节点的指标，将扫描触发器和nand2密度考虑进去，同时报告sram单元规模。

intel眼中的“假7nm” 台积电：n7制程节点命名遵循惯例、确非物理尺度

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