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全球首次极紫外光刻!三星7nm提前半年完工:抢骁龙855

2019年01月14日  | 移动技术网移动技术  | 我要评论
据报道,三星已经完成了7nm新工艺的研发,而且比预期进度提早了半年,这为三星与台积电争抢高通骁龙855代工订单奠定了基础。 自从16/14nm节点开始,三星和台积电的工艺之争愈发激烈

据报道,三星已经完成了7nm新工艺的研发,而且比预期进度提早了半年,这为三星与台积电争抢高通骁龙855代工订单奠定了基础。

自从16/14nm节点开始,三星和台积电的工艺之争愈发激烈,都不断砸下巨资加速推进新工艺。

眼下,双方的10nm工艺都已经成功商用,其中台积电拿下了华为麒麟970、苹果a11,三星则搞定了高通骁龙845。

7nm工艺上,台积电因为沿用成熟技术进展顺理,今年第一季度已投产,将代工华为麒麟980,还有消息称一并收获了苹果a12、高通骁龙855。

三星因为在7nm上投入了技术更先进、但难度极高的euv极紫外光刻,而且是全球第一个,原本预计要到今年下半年才能完成,没想到提前了足足半年。

受此鼓舞,高通已经将新的芯片样品送交三星进行测试,不知道是不是骁龙855。

在此之前,三星已经宣布7nm工艺已经赢得了高通5g芯片的订单,只要进展顺利再获得骁龙855也是水到渠成。

消息人士称,三星7nm研发团队已经完成任务,全面转向了5nm工艺的研发,而两种工艺共享设计数据库(db),下一步的难度会大大降低。

而台积电计划在7nm升级版上试用euv极紫外光刻,时间安排在明年,全面应用euv得到2020年的5nm,这下要落后三星一大截了。

intel方面的10nm也还没有出来,已经迟到了好几年,7nm更得最快也要三四年之后,euv应用则一直没有时间表。

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